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無掩膜版紫外光刻機(jī)具有高精度、高穩(wěn)定性的特點。光刻圖案設(shè)計靈活，能夠?qū)崿F(xiàn)所見即所得的精準(zhǔn)套刻以及灰度光刻。
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應(yīng)用類型： 光刻機(jī)
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當(dāng)代集成電路的發(fā)展進(jìn)程中，紫外光刻技術(shù)起著不可替代的作用。利用紫外光源對紫外敏感的光刻膠進(jìn)行空間選擇性的曝光，進(jìn)而將設(shè)計好電路版圖轉(zhuǎn)移到硅片上形成集成電路，這一工藝就是紫外光 刻技術(shù)。光刻機(jī)的分辨率和套刻精度直接決定了所制造的集成電路 的集成度，也成為了評價光刻設(shè)備品質(zhì)的關(guān)鍵指標(biāo)。
常規(guī)光刻機(jī)需要定制光學(xué)掩模板，不但價格高，且靈活性差。任何 設(shè)計上的變動，都需要重新制造掩模板。激光直寫設(shè)備具備很高的 靈活性，且可以達(dá)到較高的精度，但由于是逐行掃描，曝光效率較 低。近些年，基于空間光調(diào)制器（DMD/DLP）的技術(shù)在紫外曝光 方面獲得了長足的進(jìn)展。
無掩膜版紫外光刻機(jī)具有高精度、高穩(wěn)定性的特點。光刻圖案設(shè)計靈活，能夠?qū)崿F(xiàn)所見即所得的精準(zhǔn)套刻以及灰度光刻。
1、平面光刻
2、灰度光刻
